Las mejoras en litografía han permitido que la tecnología logre mantener constante esa ley de Moore: menores longitudes de onda, mejores lentes, y una óptica adaptativa han contribuido a estos éxitos y a lograr procesos de fabricación actuales en 45 nm que en algún momento pasarán a los 32 nanos, ya en procesos de pruebas.
Sin embargo, las reducciones de integración tienen un límite, pero un descubrimiento realizado por un grupo de investigadores podría presentar una alternativa a las tecnologías de integración por debajo de los 32 nanos. Se trata de una técnica de litografía sin máscaras, que abarataría además el proceso y que simplificaría el diseño y producción de chips.
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