Nuevos procesos litográficos se adelantan al futuro

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La famosa ley de Moore parecía tener los días contados: más pronto o más tarde los procesos litográficos llegarán a sus límites, y eso hará que ese ritmo de integración llegue a un nivel mucho menos elevado. O eso creíamos, porque una nueva técnica podría prorrogar la validez de dicha ley.

Las mejoras en litografía han permitido que la tecnología logre mantener constante esa ley de Moore: menores longitudes de onda, mejores lentes, y una óptica adaptativa han contribuido a estos éxitos y a lograr procesos de fabricación actuales en 45 nm que en algún momento pasarán a los 32 nanos, ya en procesos de pruebas.

Sin embargo, las reducciones de integración tienen un límite, pero un descubrimiento realizado por un grupo de investigadores podría presentar una alternativa a las tecnologías de integración por debajo de los 32 nanos. Se trata de una técnica de litografía sin máscaras, que abarataría además el proceso y que simplificaría el diseño y producción de chips.

vINQulos

Ars Technica

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