Toshiba producirá en 2010 chips flash de 30 nm

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La producción comenzará en marzo de 2010, dentro de la particular carrera que enfrenta a la nipona con la surcoreana Samsung y que busca la fabricación de chips de memoria flash cada vez más pequeños.

Toshiba, fabricará los chips de 30 nanometros en sus instalaciones de Yokkaichi, Japón central, la misma que empezará a fabricar chips de 43 nanometros en marzo de 2008.

Por su parte, Samsung se ha unido con IBM, Infineon Technologies AG, Chartered Semiconductor y Freescale Semiconductor Inc para hacer chips con tecnologías de proceso de 32 nanometros a partir de 2010.

Toshiba está negociando con compatriotas como Fujitsu y NEC para desarrollar los chips conjuntamente, lo que les permitiría reducir costes y responder a la gran demanda de los fabricantes de móviles, portátiles y supercomputadoras.

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