Anuncia la llegada de los principales componentes de la primera tecnología EUV High-NA enviada por ASML.

Anuncia la llegada de los principales componentes de la primera tecnología EUV High-NA enviada por ASML.
La industria hizo su apuesta hace varios años por la tecnología EUV como la próxima generación, pero ahora se cuestiona su eficiencia para PC y smartphones.
Estos chips de muy bajo consumo entrarán en producción en el año 2015 y podrían basarse en el proceso de litografía ultravioleta extrema.
Además de hacerse con el 15% de su accionariado, Intel potenciará el desarrollo de la litografía del ultravioleta extremo y las obleas de 450 milímetros.