El periódico dice que a principios de esta semana, el organismo estatal New Energy and Industrial Technology Development Organisation (NEDO) se sacó de la manga un diseño de 26 nanometros, y tratará ahora de mostrar cómo pueden producirlo de forma masiva utilizando la tecnología Ultravioleta Extrema (EUV).
NEDO ha formado un consorcio de once importantes fabricantes de chips conocido como Selete y utiliza sistemas EUV desarrollados por Canon para conseguir líneas de 26 nanometros en un segmento de 0’5 milímetros de sustrato de silicio.
El artículo dice que la producción masiva de semiconductores que incorporan esta tecnología empezará con toda seguridad en 2011.
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Nikkei ( con subscripción)
Noticia original
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