Dicho de forma básica, la fotolitografía (el proceso para hacer chips semiconductores) utiliza una máscara para crear una sombra en un material sensible a la luz llamado resistencia. En base a esto, los circuitos son “impresos”. Y aquí es donde los 22 nanometros se complican. “En cuanto la onda de luz tiene el mismo tamaño que aquello que intentas imprimir, todo se complica”, explica Subu Iyer, ingeniero especialista en este segmento para IBM. El reto es utilizar una onda de luz de 193 nanometros porque la radiación “ultravioleta extrema” no es aún práctica.
El nuevo método de informática intensiva coge los circuitos y los transforma en un patrón sobre la máscara que permite a IBM imprimir las funciones de 22 nm con una luz de 193 nm.
En esta iniciativa participan otros socios de IBM, como Mentor Graphics y Toppan Printing. Se llama Computacional Scaling Initiative y está ligada a la estrategia de cloud computing de la compañía.
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